Enabling rotary Atomic Layer Deposition for optical applications
- verfasst von
- Leif Kochanneck, Andreas Tewes, Gerd Albert Hoffmann, Kalle Niiranen, John Rönn, Sami Sneck, Andreas Wienke, Detlev Ristau
- Abstract
Ta2O5 and SiO2 films coated by rotary atomic layer deposition were studied. Investigations proved low absorption 3.1 ppm, respectively 6.0 ppm as well as uniformity 1.55 % and 2.71 % for growth rates up to 0.18 nm/sec.
- Organisationseinheit(en)
-
PhoenixD: Simulation, Fabrikation und Anwendung optischer Systeme
Institut für Quantenoptik
- Externe Organisation(en)
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Laser Zentrum Hannover e.V. (LZH)
Beneq Oy
- Typ
- Aufsatz in Konferenzband
- Publikationsdatum
- 2022
- Publikationsstatus
- Veröffentlicht
- Peer-reviewed
- Ja
- ASJC Scopus Sachgebiete
- Elektronische, optische und magnetische Materialien, Werkstoffmechanik
- Elektronische Version(en)
-
https://doi.org/10.1364/OIC.2022.TC.1 (Zugang:
Geschlossen)
